지분 3% 매입에 5억300만유로..R&D에 2억7천600만 유로

삼성전자가 네덜란드 반도체 리소그래피(노광) 장비업체인 ASML에 총 7억7천900만 유로를 투자한다.

삼성전자는 5억300만 유로를 투자해 ASML의 지분 3.0%를 인수하고, 이와 별도로 5년동안 2억7천600만유로를 ASML의 차세대 리소그래피 기술 연구개발(R&D)에 투자하기로 했다고 27일 공시했다.

ASML은 반도체 미세회로 패턴 형성에 필요한 EUV(Extreme Ultraviolet, 극자외선) 리소그래피 기술을 가진 업체이다. 이 기술은 반도체의 원판인 웨이퍼상에 설계된 회로를 입히는 기술이다.

ASML은 지난달 초 인텔, TSMC, 삼성전자 등 3개사에 공동투자를 제안했다. 삼성전자에 앞서 인텔은 41억달러, TSMC는 14억달러의 투자 계약을 맺었다.

삼성전자는 이번 투자가 차세대 EUV 리소그래피 기술개발 시기를 앞당겨 반도체 산업 발전에 도움이 될 것으로 기대했다.

연합뉴스